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    中國

    表面改性技術

    通過在膜表面添加各種功效并開發能適應特定應用目的的表面,可生產出具有多種特性的產品。 請見下列產品介紹。

    提高導電性技術

    真空條件下,在膜表面形成導電性納米級薄膜的技術應用于如撓性印制電路板和觸摸板透明導電薄膜等產品。



    濺射沉積技術
    在氬氣中對目標施加高壓時,便會形成 Ar+ 和電子組成的等離子體。 Ar+ 在電場中加速,會對目標產生影響,最終噴射出目標物質。 有些情況下,噴射出的原子會直接沉淀到基膜上,而另一些情況下,如果如氧氣等活性氣體混入氬氣中時,則會沉淀出包含目標物質和氧氣的化合物。 ITO 透明導電膜便屬于后一種,通過補充 In2O3-SnO2 目標物質中的氧氣(在分解過程中失去)形成。

    降低光反射率技術

    形成層是光學膜表面反射光的干擾和散射產生的地方,此外,形成層能防止外部光線反射,并使顯示器顯示效果更好。

    控制改善眩光
    防眩光處理
    將含分散玻璃珠或塑料珠的樹脂涂在表面,會形成微米尺度的波紋,使反射光在表面上散射開來。
    控制改善反射
    抗反射處理
    具有高反射率和低反射率以及光學厚度的互層使表面的反射光和光接口的反射光能夠彼此抵消。

    控制表面能技術

    根據膜表面形成的材料,可以控制膜的表面能并改善雙面的粘合狀況。 控制表面能的方法包括濕制程和干制程。 下述實例為干制程。
    控制改良工藝
    濺射腐蝕處理
    通過向旋轉電極提供高射頻電壓并誘導放電,高能離子會對膜產生影響,使其形成微小波動并將各種功能基添加至表面。 通過這種方式改變表面可提高粘合力。 這種技術用于氟樹脂膠帶。

    等離子處理
    通過向下電極提供高射頻電壓并誘導放電,離子和自由基可對膜表面施加影響,從而將各種功能基添加至表面。 該技術用于在聚酰亞胺膜上形成銅絲。

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    營業時間(北京時間)
    8:45-17:30(周六、周日和節假日除外)


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