真空條件下,在膜表面形成導電性納米級薄膜的技術應用于如撓性印制電路板和觸摸板透明導電薄膜等產品。
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濺射沉積技術
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形成層是光學膜表面反射光的干擾和散射產生的地方,此外,形成層能防止外部光線反射,并使顯示器顯示效果更好。
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防眩光處理
將含分散玻璃珠或塑料珠的樹脂涂在表面,會形成微米尺度的波紋,使反射光在表面上散射開來。 |
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抗反射處理
具有高反射率和低反射率以及光學厚度的互層使表面的反射光和光接口的反射光能夠彼此抵消。 |
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濺射腐蝕處理
通過向旋轉電極提供高射頻電壓并誘導放電,高能離子會對膜產生影響,使其形成微小波動并將各種功能基添加至表面。 通過這種方式改變表面可提高粘合力。 這種技術用于氟樹脂膠帶。 等離子處理 通過向下電極提供高射頻電壓并誘導放電,離子和自由基可對膜表面施加影響,從而將各種功能基添加至表面。 該技術用于在聚酰亞胺膜上形成銅絲。 |